第192章 MOCVD (4 / 5)

        也许，中国半导体设备技术发展的最大障碍，并不仅仅是制造技术，还包括了大量的专利。

        很多技术都被别人注册过了，你看到了也不能用！

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        不过，这里面也存在另一种的解读：难度。

        中村之所以能够在led技术上取得突破，就是他创造性的使用了腔体内加热技术。这使得整个反应室的制造技术，反应控制等，难度有了指数型的下降。

        在此工艺改良之前，反应室，甚至配管及出气口，都是石英的。跟金属的易加工相比，用石英做一个高温反应容器，其难度可想而知。

        正是这个改良，导致中村以个人的能力，也可以独立完成接下来的工作。

        在当下这个时间节点，同样的改良技术，也带给了国人以弯道超车的可能。

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